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주사전자현미경 소개

전자현미경이란?

전자현미경은 높은 에너지의 전자빔을 이용하여 전자가 시편과 충돌할 때 발생하는 이차전자(Secondary Electron), 반사전자(Back Scattered Electron), X-ray 등을 검출하여 확대 상을 촬영하는 장비이다. 저배율에서 고배율까지 다양한 배율에서 관찰이 가능하며, 일반적으로 저배율에서 넓은 면적을 관찰한 후 보고자 하는 미세영역을 고배율로 관찰한다.

전자현미경의 특징

  • 전자현미경은 이차원 데이터 임에도 불구하고 3차원 이미지와 유사하여 물체를 훨씬 정확하게 관찰할 수 있으며, 요철이 심한 파단면이나 표면조도가 큰 시료 관찰에 유리하다.
  • 전자현미경은 도체, 부도체, 바이오 시료의 표면뿐만 아니라 단면 전처리를 통한 시료 단면 확인에도 유용하게 활용될 수 있으며, 다층필름의 각 층의 두께 , 도금 두께, 기공의 크기 등 다양한 분석이 가능하다.
  • 그밖에 전자현미경은 특정 X-ray를 검출할 수 있는 EDS(energy dispersive X-ray spectroscopy) 검출기를 장착해 사용이 가능하며 짧은 시간에 미세영역의 구성성분을 분석할 수 있는 장점이 있다.

주사전자현미경
장비명   주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)
모델명   ZEISS EVO 10
성능
및 규격
  • 가속전압 : 0.2 ~ 30 kV
  • 분 해 능 : 2 ~ 3 nm (가속전압 : 30 kV, 텅스텐 필라멘트)
  • 탐침전류 : 0.5 ㎀ ~ 5 ㎂
  • 배 율 : 7 ~ 1,00,000배
  • 압력범위 : 10 ~ 3000 Pa
  • 검출기
    • · 이차전자 검출기 (고진공)
    • · 4세대 저진공 이차전자 검출기 (저진공)
  • 최대 분석시료 개수 : 9개 (직경 12 mm 이하)